Cette photo a été prise sur 2 échantillons de dépôts d'AlN sur un substrat de silicium lors d'expérimentations de dépôts CVD et de caractérisation des contraintes in-situ. Les irisations de couleur viennent principalement d'un gradient d'épaisseur d'AlN.
A propos de l’auteur : Vincent TABOURET travaille dans le groupe TOP en tant que post-doctorant avec Frédéric Mercier. Son sujet concerne l'étude in-situ de dépôts par procédé CVD et l'étude de dépôt de phase MAX par CVD.