BLANQUET Elisabeth

Directrice de Recherches CNRS
SIMaP - Phelma 1130 rue de la piscine BP 75 38402 Saint Martin D' Hères
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Ingénièrie de films minces de nitrures, carbures, oxydes par procédés CVD (Chemical Vapor Deposition) et ALD (Atomic Layer Deposition)  pour des applications allant de l'énergie, l'environnement au sport haute performance.


Dernières publications:
Progress in Polycrystalline SiC Growth by Low Pressure Chemical Vapor Deposition and Material Characterization
M. Gavalas, Y. Gallou, D. Chaussende, E. Blanquet, F. Mercier and K. Zekentes 
Micromachines, 2025, 16(3), 276; 10.3390/mi16030276

MoS2-assisted growth of highly-oriented AlN thin films by low-temperature van der Waals epitaxy
J. Patouillard , M. Bernard , S. Cadot , R. Gassilloud , N. Bernier , et al.
Journal of Vacuum Science & Technology A, 2024, 42 (5); 10.1116/6.0003652

Silver Nanowire Networks Coated with a Few Nanometer Thick Aluminum Nitride Films for Ultra-Transparent and Robust Heating Applications
D. T. Papanastasiou, A. Mantoux, A. Crisci, H. Ribeiro, A. Sekkat, H. Roussel, M. Weber, L. Rapenne, C. Jimenez, M. Fivel, D. Bellet, E. Blanquet, D. Muñoz-Rojas
ACS Appl. Nano Mater., 2024, 7, 11, 12312–12322; 10.1021/acsanm.4c00044

Integration of epitaxial LiNbO3 thin films with silicon technology
A. Bartasyte, A., Oliveri, S., Boujnah, S. Margueron, R. Bachelet, G. Saint-Girons, D. Albertini, B. Gautier, P. Boulet, I. Nuta, E. Blanquet, V. Astié, J.-M. Decams 
Nanotechnology, 2024, 35(17), 175601 ; 10.1088/1361-6528/ad1b98 

MoS2 nitridation monitored by in situ reflectance measurements
J. Patouillard, R. Gassilloud, F. Mercier, A. Mantoux, R. Boichot, A. Crisci, M. Bernard, N. Gauthier, S. Cadot, C. Raynaud, F. Gianesello, E. Blanquet
Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films, 2023, 41(5), 052201; 10.1116/6.0002678

Green upconversion improvement of TiO2 codoped Er3+-Yb3+ nanoparticles based thin film by adding ALD-Al2O3 for silicon solar cell applications
F. Trabelsi, F. Mercier, E., Blanquet, R. Boichot, D. Chen, R. Salhi
Journal of Luminescence, 2022, 252, 119282; 10.1016/j.jlumin.2022.119282

Ti3SiC2-SiC multilayer thin films deposited by high temperature reactive chemical vapor deposition,
J. Sanchez Espinoza,  F. Trabelsi, C.  Escape, L. Charpentier, M. Fivel, E.  Blanquet, F. Mercier, Surface & Coatings Technology, 447 (2022) 128815-; 10.1016/j.surfcoat.2022.128815

Activités / CV

Responsabilités :
Déléguée Scientifique CNRS Chimie "Matériaux et Traitements de Surface"
Directrice Adjointe du laboratoire SIMaP
Directrice Adjointe du GDR RAFALD (Réseau des Acteurs Français de l'ALD)

Directrice Adjointe du pôle de recherche PEM (Physique, Ingénièrie, Matériaux) de la COMUE UGA (2015-2020)
Responsable scientifique de l’axe IRP Interdisciplinary Research Project “Ingéniérie des films minces” du labex CEMAM, Centre d’Excellence sur les Matériaux Architecturés Multifonctionnels (2010- 2018)

Membre des comités CES et CEP ANR MATEPRO, AAP Défi 3 (2013-2016)
Responsable scientifique de l’axe “Matériaux pour l’énergie” de la Communauté Académique de Recherche (ARC) ENERGIES Rhône-Alpes, ARC4 (2012-2017).
Membre nommé du CNU 33e section (2011-2015)

Emplois et activités successifs:

1991-93 : CDD ingénieur au NASA Lewis Research Center Cleveland, Ohio - USA 
1993 :       Recrutement CNRS Chargée de Recherche CR2 ; Dept Sciences Chimiques, LTPCM

Formation:

1987 :      Diplôme d’ingénieur de l’Ecole Nationale Supérieure d’Electrochimie et Electrométallurgie de Grenoble (ENSEEG/INPG), Option Matériaux
1987 :       DEA de l’ENSEEG, Option Métallurgie
1990 :       Doctorat de l’Institut National Polytechnique de Grenoble
 “Dépôt chimique en phase vapeur de siliciures pour la microélectronique”
Spécialité Sciences des Matériaux et Métallurgie
2000 :       Habilitation à diriger des recherches, INPG
“Développement de couches minces par dépôt chimique à partir d’une phase gazeuse : expériences et simulations de procédés”