Soutenance de Vincent Carreau
Contrôle microstructural du cuivre aux dimensions nanométriques : Application à la maîtrise de la résistivité des interconnexions en microélectronique.
Thèse préparée dans le laboratoire des matériaux et modules avancés du CEA-Leti-Minatec , sous la direction de Y. Bréchet (spécialité Micro et Nano électronique).
le 27 novembre 2008 à 10h30 à* l'amphi C du bâtiment central de l'institut national polytechnique de Grenoble, 46 avenue Félix Viallet
Résumé
De part les hautes densités d'intégration atteintes dans les circuits intégrés avancés, les interconnexions ont un rôle de plus en plus important. Lorsque les dimensions critiques des interconnexions sont réduites en deçà des 100nm, on observe une hausse de la résistivité du métal et une diminution de la durée de vie qui se traduisent par une perte de performance. Celle-ci est principalement due à la microstructure du métal dans ces milieux confinés. Cette thèse présente l'étude de la microstructure du cuivre dans les interconnexions. Pour cela, nous avons étudié les évolutions microstructurales de films minces, de lignes étroites et d'architectures damascènes. Nous avons identifié, quantifié et compris certains paramètres majeurs des évolutions microstructurales dans ces milieux confinés tels que la géométrie des lignes, les forces d'ancrage aux interfaces et les évolutions de mobilité des joints de grain. Nous avons ainsi pu proposer des solutions d'optimisation de la microstructure.
MEMBRES DU JURY
Brigitte Bacroix, Christophe Detavernier, Pascal Paillard, Daniel Bellet, Christian Rivero, Yves Bréchet, Sylvain Maitrejean, Marc Verdier.