VENKATESH Aatreya

Analyse nanotomographique par rayons X in situ du frittage contraint de poudre
Cette thèse de doctorat nous permettra de développer les moyens d'obtenir des images de nanotomographie (nCT) 3D complètes lors du frittage à haute température et d'explorer ainsi comment la densification et la croissance des grains sont affectées par la présence d'un substrat pendant tout le cycle de frittage, avec un intérêt particulier pour le développement de l'anisotropie structurelle.

Cette question sera étudiée dans le cadre du réseau MATHEGRAM Innovative Training Network financé par l'UE

Les principaux objectifs de ce travail seront donc:
i) d'étudier le frittage contraint par nanotomographie à rayons X in situ à l'échelle de la longueur des particules;
ii) de fournir des informations quantitatives sur les phénomènes de frittage;
iii) d'explorer le développement de l'anisotropie due à la présence d'un substrat pendant tout le cycle de frittage.