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Science et ingénierie des matériaux et des procédés

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VENKATESH Aatreya

Doctorant CNRS - SIMAP/GPM2

Coordonnées

Laboratoire SIMAP/GPM2, Domaine Universitaire, BP 46 38402 Saint Martin d'Heres cedex, France

  • Fax : 0476826382

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Analyse microtomographique par rayons X in situ du frittage contraint de poudre
​​​​​​​Cette thèse de doctorat nous permettra de développer les moyens d'obtenir des images de nanotomographie (nCT) 3D complètes lors du frittage à haute température et d'explorer ainsi comment la densification et la croissance des grains sont affectées par la présence d'un substrat pendant tout le cycle de frittage, avec un intérêt particulier pour le développement de l'anisotropie structurelle.

Cette question sera étudiée dans le cadre du réseau MATHEGRAM Innovative Training Network financé par l'UE

Les principaux objectifs de ce travail seront donc:
i) d'étudier le frittage contraint par nanotomographie à rayons X in situ à l'échelle de la longueur des particules;
ii) de fournir des informations quantitatives sur les phénomènes de frittage;
iii) d'explorer le développement de l'anisotropie due à la présence d'un substrat pendant tout le cycle de frittage.

Activités / CV

Master en 'Computational Mechanics of Materials and Structures' 
Université de Stuttgart, Allemagne

Bachelor en 'Mechanical Engineering'
NMAM Institute of Technology, Inde

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mise à jour le 5 mars 2020

Université Grenoble Alpes