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Science et ingénierie des matériaux et des procédés
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Soutenance de Perrine VIOLET

Mis à jour le 5 novembre 2008
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Etudes thermodynamique et expérimentale du dépôt ALD (Atomic Layer Deposition) de TaN et de son précurseur organométallique PDMAT, Ta[N(CH3)2]5, utilisé en microélectronique.

lundi 29 septembre 2008 Jury ROGEZ Jacques (rapporteur) MAURY Francis (rapporteur) DOPPELT Pascal (president) CHATILLON Christian (examinateur) FARCY Alexis (invité) NUTA Ioana (examinateur) BLANQUET Elisabeth (directeur de thèse) Résumé
L'étude de la vaporisation et de la décomposition thermique du PDMAT sous vide a été réalisée  par spectrométrie de masse avec, respectivement, cellule d'effusion et cellules tandem. La conception et la validation du réacteur, réalisées au cours de cette thèse, spécifique à l'étude par spectrométrie de masse des molécules organométalliques très réactives au contact de l'air,  sont exposées. En parallèle, des premiers dépôts ALD de TaN à partir de PDMAT et NH3 ont été réalisés sur un réacteur ALD  et caractérisés par microscopie électronique et XPS. La confrontation des résultats permet de déterminer les propriétés structurales et thermodynamiques des molécules identifiées et de proposer des schémas de réactions se produisant lors du dépôt de TaN dans un réacteur ALD. Les données obtenues sont utilisées dans différentes approches de modélisations thermodynamiques du procédé de croissance à partir de la phase gazeuse.
MOTS-CLES : Spectrométrie de masse, cellule d'effusion, cellules tandem, pressions de vapeur, ALD, TaN, thermodynamique, vaporisation, décomposition thermique, organométallique, PDMAT.
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mise à jour le 5 novembre 2008

Univ. Grenoble Alpes