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Science et ingénierie des matériaux et des procédés

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Dépôts de couches atomiques (ALD)

Le dépôt de couches atomiques (ALD) est une technique d’élaboration en phase vapeur permettant d’envoyer séquentiellement les précurseurs dans la chambre de réaction. Le principe de l’ALD est de se placer dans des conditions expérimentales (température, pressions, nature chimique des précurseurs, pression de vapeur des précurseurs, durée des injections des précurseurs, …) où la surface du substrat est saturée par les réactifs envoyés de manière à obtenir une couche mince conforme quelle que soit la géométrie du substrat.

Projets


Multicouches isolantes / supraconductrices: nous élaborons des multicouches AlN / NbN dans le cadre du projet MULNIS (soutenu par le CEMAM) et du projet européen EUCARD 2

Modification de la surface de matériaux d’électrode haut potentiel pour les batteries Li-ion (projet CARNOT Energies du Futur PROLION)

Amélioration de la technologie des batteries Li-air en collaboration avec HUTCHINSON par la protection, par des couches minces obtenues par ALD, des surfaces d’électrode à base carbone (projet CEMAM).

mise à jour le 9 avril 2015

Univ. Grenoble Alpes