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Grenoble INP
Science et ingénierie des matériaux et des procédés

Essaimage

A côté des recherches partenariales, des actions de valorisation plus poussées ont été effectuées en 2007 :

Multi-matériaux verre métallique / alliages légers

Ces actions bénéficient d'un soutien de Gravit (Consortium INPG-CNRS-Universités pour la valorisation) dans le cadre d'un projet émergent d'innovation et concerne des "prototypes de multi-matériaux verre métallique / alliage d'aluminium pour applications électriques". Un soutien au transfert est également apporté sur "l'élaboration de multi matériaux verre métallique / alliage léger par co-déformation". Ces actions ont conduit au dépôt d'une demande provisoire de brevet américain.

Coulée de matériaux réfractaires

Le savoir-faire sur la coulée métallurgique a permis d'incuber la société TiTaCreuset au sein du laboratoire. La société TiTaCreuset, créée depuis septembre 2007, apporte une solution pour le recyclage des matériaux métalliques sensibles. Lauréate du Concours du Ministère de la recherche 2007, cette société a créé une plateforme de fusion en creuset froid (coulée continue et creuset poche). L'activité de TiTa Creuset se focalise sur la valorisation des déchets métalliques et la réalisation de productions spécifiques (de 500 g à 300 kg). La jeune entreprise offre des solutions de fusion et de refusion des matériaux nobles : titane, zirconium, chrome etc. La plateforme permettra d'industrialiser, à une échelle raisonnable, des développements innovants étudiés en laboratoire, comme par exemple les verres métalliques massifs (voir paragraphe précédent).

Semiconducteurs à large bande interdite / CVD haute température

Cette action a démarré en 2006 par l'incubation de la société ACERDE puis par sa création en 2007.
Acerde est une société iséroise innovante spécialisée dans les procédés de dépôt HTCVD. Cette société a été lauréate au concours national d'aide à la création d'entreprises de technologies innovantes. La HTCVD est une technique d'élaboration de matériaux par dépôt en phase gazeuse à haute température. Acerde développe notamment avec ce procédé des revêtements de nitrure d'aluminium monocristallin (AlN) qui présentent des propriétés semi-conductrices exceptionnelles avec une bande interdite la plus élevée obtenue à ce jour. Ces matériaux pourraient notamment permettre le développement de diodes électro-luminescentes UV pouvant émettre jusqu'à 200 nm pour de multiples applications (découpe, purification de l'eau ou de l'air) ou entrer dans la fabrication d'appareils de purification de l'eau avec des diodes UVC. Le procédé HTCVD est également utilisé pour d'autres applications développées par la société Acerde telles que la fabrication de dépôts épais de tungstène avec sous-couche, le développement de nouveaux empilements comme tungstène sur SiC ou l'élaboration de wafers en SiC polycristallins.

Photovoltaïque : transfert de savoir-faire sur la purification du silicium métallurgique vers l'INES

Dans la filière silicium de l'activité photovoltaïque, l'un des verrous est le coût du substrat. Les brevets et le savoir-faire développé ces dernières années ont permis de préparer le transfert à l'échelle "pilote" du procédé de purification par plasma sous champs intenses. Cette action est soutenue par un consortium d'industriels et par le CNRS. Des projets de recherche amont concernant aussi bien le matériau que le procédé sont en cours de maturation afin d'optimiser les relations structure-propriétés en particulier électriques ainsi les échanges de matière interfaciaux sous champs intenses
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Rédigé par Sabine Lay

mise à jour le 19 septembre 2014

Communauté Université Grenoble Alpes
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